PI推出纳米级快速对焦方案，提升晶圆检测与表面计量效率

P-725压电平台与V-308音圈平台实现毫秒级响应，满足高倍率成像需求

无论是检测半导体晶圆、测量光学元件，还是成像生物样本，数据质量都取决于系统能否持续保持准确对焦。现代显微镜和表面计量设备通常在高倍率下工作，焦深可能只有几微米甚至更小，样品高度、表面形貌、热漂移或振动发生轻微变化，就可能使目标区域偏离焦点，降低图像质量和测量精度。

为了解决以上问题，德国精密定位领域公司PI提供了由压电驱动的P-725和音圈驱动的V-308组成的快速纳米级对焦方案，通过连续调整物镜或样品位置，实现纳米级分辨率和毫秒级响应。在光学轮廓测量和三维表面计量中，快速扫描焦点有助于准确重建复杂表面结构；在自动化显微成像中，则可以在保持图像清晰度的同时，提高大面积区域或多组样品的检测效率。

速度与精度满足半导体检测需求

在半导体检测和计量领域，设备需要快速、准确地测量数百万个微小结构，因此对焦速度和定位精度都提出了较高要求。精密对焦系统可以减少失焦误差和稳定时间，提高设备吞吐量与重复性，并帮助检测尺寸越来越小的缺陷和结构。

随着成像分辨率持续提升、晶圆生产规模不断扩大，快速纳米定位对焦系统正成为新一代检测和计量设备的重要组成部分。

要在毫秒级完成纳米精度定位，除了高精度机械结构和传感器，还需要先进的电子系统与控制算法。PI提供台式和OEM数字运动控制器，并配备线性化和优化功能，支持连续扫描以及快速“步进—稳定”定位应用。

PI的相关方案可应用于半导体检测、表面计量、DNA测序、显微成像、光子学和激光加工等领域。

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相约深圳，共话微纳光学制造新机遇

第七届中德（欧）合作创新·MEMS微纳光学制造论坛，将于9月9日在深圳会展中心（宝安）召开，与深圳光博会首日同期举行。本届论坛由深圳市微纳制造产业促进会、深圳市汉希卡德智能传感应用技术研究院主办，微纳视界承办，将汇聚国内外微纳制造领域的企业代表、专家学者及产业嘉宾，围绕微纳技术产业链发展、前沿技术创新与产业协同合作，开展主题演讲及圆桌对话。

现面向行业开放参会报名、嘉宾演讲、企业展示及品牌赞助合作，诚邀微纳制造产业链上下游企业与业内同仁齐聚深圳，共话技术趋势，共拓合作机遇。点击下方图片可下载本届大会赞助及合作方案（内附联系方式）

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原文：Nano-Focusing: Why Speed and Precision Matter in Surface Metrology and Microscopy