DNK 激光直写光刻机

利用独自的高速描画「Point Array方式」技术直接描画图形的装置。

主要特长
能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。
能够对应半导体、电子零件、高端PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等的曝光。
由于在光刻工艺中不需要掩膜，因而可以最大限度地降低开发成本和缩短市场供应时间。
此外，还可以根据客户需求，提供相应的装置构造。