iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTomic® HiK系列原子层沉积系统，适用于客户制程高介电常数栅氧层、MIM电容器绝缘层、TSV介质层等薄膜工艺需求；ALD系列设备凭借原子级别的精确控制、沉积薄膜的高覆盖率和超薄膜厚的均匀性可为逻辑芯片、存储芯片提供介质层等关键工艺解决方案，技术和设备指标达到国内一流、国际先进水平。