光伏投影扫描光刻系统 HJT-lithography systems
产品介绍
技术特点
- 针对异质结电池片铜栅线工艺的图形化需求，专门设计了一款投影扫描光刻系统，具有快速光刻、分辨率好、大焦深的特点，采用405nm光纤激光光源，非常适合在光伏专用感光油墨上进行曝光，实现高品质的槽型结构。配置了CCD识别基片纠偏系统，实现30μm对准精度。
- 该投影扫描光刻模式，采用较低成本的普通掩模版作为图形输入，且具有曝光均匀性与一致性好、工艺窗口大、对基片厚度误差适应性高、便于与前后道设备组线的优点，是光伏图形化的理想解决方案。
规格参数
* 具体指标因工艺差异有所不同
采用抛光基片，负光刻胶的光刻结果
采用光伏镀铜基片，感光油墨的光刻结果
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