中国推进国产浸没式DUV设备生产，ASML面临长期市场压力

据多家媒体报道，一家名为上海爱晟纳电子科技集团有限公司的中国国有企业，正在牵头推进国产浸没式深紫外光刻设备的生产。该公司计划在2026年生产约5台设备，2027年将产量提高至约20台，并可能向中芯国际、华虹半导体和长鑫存储等中国芯片制造商供货。

这一进展意味着，中国正在将半导体设备国产化进一步延伸至技术难度较高的浸没式DUV光刻领域。不过，现有报道尚未披露设备的分辨率、套刻精度、吞吐量、良率表现以及客户验收情况，因此，该企业开始生产国产浸没式DUV设备，并不等同于已经具备与ASML成熟产品相当的量产能力。

中国企业启动国产浸没式DUV设备生产

光刻机是半导体制造的核心设备，其通过光学曝光将电路图形转移到晶圆表面。与传统干式DUV设备相比，浸没式DUV通过在投影镜头与晶圆之间加入液体介质，提高了光学系统的分辨能力，从而制造尺寸更小、密度更高的电路图形。

尽管浸没式DUV的先进程度不及EUV设备，但其应用范围十分广泛，仍是汽车电子、消费电子、存储器以及多种成熟和先进制程芯片生产中的重要设备。通过多重图形化工艺，DUV还可以用于制造更先进的芯片，但也需要增加曝光和图形转移次数，带来工艺复杂度上升、良率下降、生产效率降低和制造成本增加等问题。

对于中国半导体产业而言，国产浸没式DUV设备的意义并不只在于性能指标。即使初期设备的生产效率和稳定性落后于ASML，但只要能够持续供货、维护和升级，便可以降低中国芯片制造商对进口光刻设备的依赖。

消息引发ASML及欧洲芯片股下跌

中国开始推进国产浸没式DUV设备生产的消息公布后，资本市场迅速作出反应。ASML股价在周一盘中一度下跌约8%，两天累计跌幅达到约10%，公司市值蒸发超过600亿欧元。

同时，ASML部分设备和材料供应商的股价也受到影响，其中BE Semiconductor Industries（贝思半导体）下跌8.5%，Soitec下跌5%，英飞凌下跌3%。市场担忧，中国国产设备可能逐步削弱ASML在DUV光刻机市场上的主导地位，并影响其长期中国业务收入。

此次下跌发生在ASML股价大幅上涨之后。2026年以来，该公司股价累计上涨约50%，一度成为欧洲市值最高的上市公司，部分投资者此前甚至认为，ASML有可能成为欧洲首家市值达到1万亿美元的企业。近期有关中国国产光刻设备的消息也促使市场重新评估ASML长期增长预期中的潜在风险。

不过，多名行业分析师认为，资本市场的短期反应可能超过国产设备现阶段能够造成的实际影响。国产浸没式DUV设备距离在生产规模、运行稳定性和单位芯片成本方面真正挑战ASML，仍有较长距离。

ASML的EUV优势仍然稳固

中国目前推进的是浸没式DUV设备，而不是技术难度更高的EUV光刻机。EUV设备使用更短波长的极紫外光，可以减少先进芯片制造所需的多重图形化步骤，是生产前沿人工智能芯片和先进逻辑芯片的重要设备。

ASML经过近20年的研发，在EUV设备领域建立了接近垄断的市场地位。中国现阶段尚未建立可与ASML相当的EUV设备量产能力，同时受出口管制影响，也无法从ASML获得此类设备。

因此，中国国产浸没式DUV设备短期内不会直接动摇ASML在EUV市场的主导地位。即使中国厂商能够利用DUV多重图形化制造7纳米级芯片，但这种方式在工艺步骤、良率、产能和成本方面仍难以与使用EUV设备的生产路线相比。尽管如此，DUV仍然覆盖大量成熟制程和部分先进制程需求，其市场规模和战略价值不容忽视。如果中国设备制造商能够逐步改善性能并扩大产量，首先受到影响的可能不是ASML的EUV业务，而是其在中国市场销售的DUV产品。

出口管制可能加快国产替代

ASML预计，2026年约20%的公司营收将来自中国市场，金额约为90亿欧元。尽管美国主导的出口限制已经阻止ASML向中国销售EUV设备和部分性能最强的浸没式DUV系统，但中国仍然是ASML的重要市场。

美国自2019年以来持续限制先进EUV设备流向中国，并从2023年开始进一步扩大对先进浸没式DUV设备的出口限制，美国国会至今还在讨论新的限制措施，可能进一步影响ASML目前仍可向中国销售的部分浸没式DUV设备。

出口管制原本旨在限制中国获得先进芯片制造能力，但也为国产光刻设备创造了更加明确的市场需求。相关研究人员认为，美国出口管制实际上为中国发展国产光刻设备建立了商业基础，这并非政策原本希望实现的结果，但却正在成为现实。

在没有出口限制的情况下，中国芯片制造商通常会优先选择性能更成熟、生产效率更高的ASML设备。但在设备供应、零部件获取和后续维护均可能受到限制的情况下，企业的选择标准正在发生变化。

相较于继续依赖未来可能被限制销售或停止维护的进口设备，中国芯片制造商可能更愿意接受性能相对较弱的国产系统，以换取供应链的稳定性和可控性。

因此，中国推进国产浸没式DUV设备生产的真正影响，不在于其是否已经达到ASML的技术水平，而在于中国正在建立一条不完全依赖国外设备的光刻技术路线。ASML在EUV领域的优势短期内仍然稳固，但其DUV产品在中国市场的长期发展空间，已经面临不断上升的国产替代压力。

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