光波导白皮书——用于增强现实眼镜的纳米压印光刻（NIL）与蚀刻波导：全无机纳米压印光刻是必然之选吗？

随着AR眼镜预计将在2026年迎来爆发式增长，系统集成商正在积极寻找合适的波导材料。虽然反射式几何波导和聚合物芯波导也是可行的选择，但本文将重点讨论以下三种类型。  

• 第一类纳米压印光刻技术——聚合物和无机纳米颗粒复合材料（DigiLens、Dispelix、Morphotonics、SCIL、Rainbow 等）
• 2 型 NIL – 全无机高折射率纳米颗粒配方（Myrias Optics）
• 3 型蚀刻 – 直接基板蚀刻（应用材料公司、Dispelix + Eulitha）

本系列白皮书的第一部分探讨了三种用于制造AR眼镜玻璃基波导的制造方法。目前，业界正致力于开发折射率在2.0至2.2范围内的下一代玻璃。但从长远来看，人们显然希望将折射率提升至2.6，以支持具有高图像质量且可大规模生产的大视场角眼镜。第一部分详细介绍了各种制造方法，而第二部分将分析这三种方案的光学性能和制造成本，并展望未来的发展路线图。