NaPANIL纳米压印工艺库

NaPa 和 NaPANIL——以及“NaPa 工艺库”

从 2004 年到 2008 年，欧盟综合项目“新兴纳米图案化方法”（NaPa）汇集了 35 家在纳米制造领域拥有丰富经验的欧洲顶尖学术和工业机构。NaPa 联盟将纳米压印光刻、软光刻与自组装以及基于 MEMS 的纳米图案化等新型图案化方法整合到一个项目中，既预见了对相关技术、标准和计量方法的日益增长的需求，也积极响应了这些需求，以充分利用具有纳米级特征的工程结构的新应用特性。

除了进一步开发工艺技术（包括工艺、工具和材料）之外，NaPa 还涵盖了广泛的应用领域。这远远超出了为芯片制造开发下一代纳米光刻技术的范围。虽然在项目初期许多工艺仍处于萌芽阶段，但在项目后期，许多工艺已经经历了一个整合阶段。例如，近年来涌现出了许多应用。三大主题的研究得到了材料、工具与模拟以及面向公众的传播活动等子项目的支持。

2008年至2012年的NaPANIL项目可被视为Na-Pa项目的自然延续。尽管在工艺范围和工业应用方向上有所不同，但NaPANIL项目继承了Na-Pa项目的发展势头，并在制造价值链方面增添了一些关键要素，其范围超越了Na-Pa项目最初的子项目“纳米压印光刻”（包含印章、工艺和应用三个工作包）。

NaPaNIL是一个大型集成合作项目，专注于“基于纳米压印光刻的纳米图案化、生产和应用”，其重点在于应用，并以三个来自不同领域的工业应用作为工艺开发的驱动力。尽管如此，在本库中，我们将重点关注制造技术（该项目中最大的子项目）的贡献，并添加更多研究型应用领域的贡献。主要原因是，我们不想公开工业应用的完整价值链，因为尽管每条价值链都受知识产权保护，但我们意识到，许多专业知识不仅在于“是什么”，还在于“如何做”。

NaPa 的主要成果之一是 NaPa 工艺库 (NaPa LoP)，其中包含用于可扩展且经济高效地制造例如聚合物基光学元件、有机发光二极管 (OLED) 和芯片实验室系统等产品的工艺。NaPa 工艺库包含 27 个工艺，这只是项目期间开发的工艺的一小部分。最初，该工艺库计划是一个“动态文档”。

随着前NaPa成员或其他人士的贡献，NaPANIL项目得以不断发展壮大。作为NaPa的继任者，NaPANIL项目如今已能实现这一目标，因为NaPANIL的大多数研究伙伴此前已参与了NaPa中与纳米压印光刻（NIL）相关的工作包。尽管NaPANIL更侧重于通往特定工业应用的工艺链，但该项目也开发了一系列工艺，并从中选取了一些纳入本项目。

此外，我们还纳入了NaPa中的许多工艺（与NaPa合作伙伴正在进行的工作相关），以使NaPANIL项目成为NaPa项目的继任者，这些工艺已融入学生的教育，并成为对NIL工艺感兴趣的研究人员和工程师的宝贵资源。因此，NaPANIL与NaPa一样，为释放纳米技术在欧洲的潜力提供了独特的机会。