微纳制造
服务信息网

高真空超洁净气氛炉

产品介绍

高真空超洁净气氛炉集真空抽气系统、真空炉膛、温度控制系统、气路系统、压力保护系统为一体。炉衬使用多层钨钼金属反射屏制作而成。

采用钨片为加热元件;是专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析、生产而研制的专用设备。

高真空超洁净气氛炉外观
主要特点
  • 本产品采用可靠的集成化电路,工作环境好,抗干扰。
  • 最高温度时炉体外壳温度≤40°C,大大提高了工作环境。
  • 微电脑程序控制,全自动升温/降温,运行中可以修改控温参数及程序,灵活方便、操作简单。
  • 具有正负压显示,炉膛超压保护、超温保护,水流水压水温保护,断偶保护。
技术参数
产品型号 HITSemi-VAF-1500
温度控制系统

长期工作温度:1400°C(可选配,1600°C)

控制范围:50°C~1800°C

控温精度:±1°C(集成化电路控制,无超调现象)

炉内温场均匀度:±2°C(根据加热室大小而定)

升温速率:可自由调节,范围:最快升温速率每分钟20°C(非线性)、最慢升温速率每小时1°C(非线性)

炉膛

炉膛尺寸(有效热场):300mm × 200mm × 200 mm

发热元件:高纯金属钨片(禁止在800°C以上通入N2

发热元件安装位置:鼠笼式结构

隔热保温:炉膛内采用10层反射屏(3层钨、2层钼、2层310S、3层304)

炉体结构

炉体结构:304不锈钢水冷双层炉体结构,保证良好工作环境

炉体外壳温度:长期使用不停炉,外壳温度小于45°C(有水温检测)

水冷系统 接口:进、排水口设有接口,可直接连接用户循环水系统
保护:排水管带过压保护;停水时声光报警和互锁装置启动,同时开启紧急冷却水
冷水机(可选配)
真空系统

极限真空度:6×10-4 Pa(空炉冷态洁净)

工作真空度:6×10-3 Pa(空炉洁净)

真空机组

分子泵+机械泵(可选配,干泵)

气路系统

可通气体:Ar、H2

充气系统:加热过程中可调节真空度

控制形式

半自动/全自动

控制系统

PLC+触摸屏

设备工作条件

供电

三相五线制,AC 380V,50Hz;90KVA(设备供电由两路组成,一路系统供电,一路加热供电)

功率

60KW

冷却水

≤100L/min

水压

0.1Mpa~0.15MPa

水温

18℃~25℃

气动部件供气压力

0.5MPa~0.7MPa

质量流量控制器供气压力

0.05MPa~0.2MPa

工作环境温度

10℃~40℃

工作环境湿度

≤50%

新闻资讯
Your roles(Please select one or more roles)
Share this on