高真空超洁净气氛炉集真空抽气系统、真空炉膛、温度控制系统、气路系统、压力保护系统为一体。炉衬使用多层钨钼金属反射屏制作而成。
采用钨片为加热元件;是专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析、生产而研制的专用设备。
长期工作温度:1400°C(可选配,1600°C)
控制范围:50°C~1800°C
控温精度:±1°C(集成化电路控制,无超调现象)
炉内温场均匀度:±2°C(根据加热室大小而定)
升温速率:可自由调节,范围:最快升温速率每分钟20°C(非线性)、最慢升温速率每小时1°C(非线性)
炉膛尺寸(有效热场):300mm × 200mm × 200 mm
发热元件:高纯金属钨片(禁止在800°C以上通入N2)
发热元件安装位置:鼠笼式结构
隔热保温:炉膛内采用10层反射屏(3层钨、2层钼、2层310S、3层304)
炉体结构:304不锈钢水冷双层炉体结构,保证良好工作环境
炉体外壳温度:长期使用不停炉,外壳温度小于45°C(有水温检测)
极限真空度:6×10-4 Pa(空炉冷态洁净)
工作真空度:6×10-3 Pa(空炉洁净)
分子泵+机械泵(可选配,干泵)
气路系统
可通气体:Ar、H2
充气系统:加热过程中可调节真空度
半自动/全自动
PLC+触摸屏
供电
三相五线制,AC 380V,50Hz;90KVA(设备供电由两路组成,一路系统供电,一路加热供电)
功率
60KW
冷却水
≤100L/min
水压
0.1Mpa~0.15MPa
水温
18℃~25℃
气动部件供气压力
0.5MPa~0.7MPa
质量流量控制器供气压力
0.05MPa~0.2MPa
工作环境温度
10℃~40℃
工作环境湿度
≤50%
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