无掩膜/激光直写光刻机

v 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器

v 线宽：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm

v 光刻效率：最快3000mm2/min@5μm

v XY行程：55~205mm

v 样品尺寸：最小3mm*3mm   最大8 inch

v 应用领域：生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、先进芯片封装、光通讯芯片光刻