数字投影无掩膜光刻系统

紧凑型桌面无掩膜光刻系统，采用数字微镜技术进行高速无掩膜图形生成，可实现最高0.5um的最小特征尺寸。配备高精度实时对焦与视觉对位套刻技术，主要应用于制作MEMS、光子器件、量子计算芯片及传感器等领域快速原型开发。