iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统采用创新的批量型(mini-batch)腔体设计,可一次处理25片12英寸晶圆,适用于成膜镀率低,厚度要求高,以及产能要求高的关键工艺及应用。iTomic® MW系列产品利用特有的流场设计,具有成膜速度快,占地面积小,产能高、使用成本低等优势,为存储芯片以及Micro-OLED显示器、MEMS等提供定制化量产的解决方案。
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