全自动紫外纳米压印光刻设备

GL300 MLA是天仁微纳最新型专门为晶圆级光学加工（WLO-Wafer Level Optics）开发的全自动紫外纳米压印光刻设备，可在200/300 mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。

该设备支持cassette to cassette自动上下片、自动复制柔性复合工作模具，工作模具自动更换。整个工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。内置的高精度自动点胶系统、APC（主动模具基底平行控制）技术、以及自动脱模功能都保证了大面积晶圆级光学生产的精度、均匀性（TTV）与良率。同时，自动模具基底对位系统还可实现晶圆之间对位堆叠工艺（WLS-Wafer Level Stacking）。

GL300 MLA纳米压印设备适用于DOE、匀光片（Diffuser）、微透镜阵列、菲涅尔透镜等产品的研发和量产。

主要功能

• 全自动200/300mm晶圆级光学加工（WLO）生产线
• APC主动模具基底平行控制技术，确保大面积晶圆压印TTV均匀性
• Cassette to cassette自动上下片，光学巡边预对位
• 设备内自动复制柔性复合工作模具，同时支持自动更换工作模具，适合连续生产
• 内置高精度自动点胶功能
• 自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程在密闭洁净环境中自动进行，以保证压印质量
• 标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料
• 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括标准示范WLO等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平

相关参数