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南京邮电大学——微结构与掩模版加工技术服务

2026-11-12
微结构与掩模版加工技术服务
招标公告
制造生产
学校采购
发布日期:2026-11-12查看原文
项目名称微结构与掩模版加工技术服务
采购单号CF102932026000184
采购单位南京邮电大学
币种人民币
竞价开始时间2026-11-12 16:05:51
竞价结束时间2026-11-17 16:05:47
付款方式货到验收合格后付款
发票类型增值税普通发票
安装要求免费上门安装(含材料费)
备注微结构与掩模版加工技术服务含掩模版图布局布线设计及 20 块铬掩模版加工,开展 4 英寸基板微米级图形加工、金属与介质薄膜制备、干法及湿法刻蚀工艺实施;光刻工艺控制要求曝光精度 2μm,多层图形套刻偏差≤2μm,关键图形尺寸偏差 ±1.5μm;镀膜可制备 Au、Pd、Al、Ti、SiO?及高 k 介质薄膜,膜厚相对目标值偏差控制在 ±10% 以内,有效区域内膜厚不均匀性≤10%;干法刻蚀图形尺寸偏差 ±2μm、刻蚀深度相对目标偏差≤±10%,湿法刻蚀重点管控侧向腐蚀与去除完整性,同步配套工艺调试、过程质检、相关版图文件及检测资料交付。

采购明细 1

采购项名称微结构与掩模版加工技术服务
型号掩模版图布局布线设计及 20 块铬掩模版加工,开展 4 英寸基板微米级图形加工、金属与介质薄膜制备、干法及湿法刻蚀工艺实施;过程质检、相关版图文件及检测资料交付。
规格参数微结构与掩模版加工技术服务含掩模版图布局布线设计及 20 块铬掩模版加工,开展 4 英寸基板微米级图形加工、金属与介质薄膜制备、干法及湿法刻蚀工艺实施;光刻工艺控制要求曝光精度 2μm,多层图形套刻偏差≤2μm,关键图形尺寸偏差 ±1.5μm;镀膜可制备 Au、Pd、Al、Ti、SiO?及高 k 介质薄膜,膜厚相对目标值偏差控制在 ±10% 以内,有效区域内膜厚不均匀性≤10%;干法刻蚀图形尺寸偏差 ±2μm、刻蚀深度相对目标偏差≤±10%,湿法刻蚀重点管控侧向腐蚀与去除完整性,同步配套工艺调试、过程质检、相关版图文件及检测资料交付。
数量1.0
单位项
售后服务现场验收,一年质保
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