日本佳能计划2027年将光刻设备产量提升至多两倍

据日本时事通讯社10月22日获悉，日本佳能公司计划在2027年将半导体光刻设备产量提升至今年的最多两倍。

此举的背景是，随着人工智能技术的普及，全球半导体需求迅速增长，各地芯片制造商正加大投资以提升产量。

光刻设备通过照射晶圆来印制电路。在用于制造最先进半导体的极紫外（EUV）光刻设备领域，全球市场几乎被荷兰ASML公司垄断；而在用于制造存储芯片和功率芯片的i线光刻系统领域，佳能占据最大市场份额。

佳能将主要利用其2025年在日本栃木县宇都宫市建成的新工厂来实现此次增产计划。今年该公司预计销售227台设备，但尚未公布产量预测。据消息人士透露，佳能计划在2027年将产量提升1.5至2倍。

来源：编译自日本时事通讯社（Jiji Press）报道，经Nippon.com转载。