国产EUV光源系统样机亮相：国产化率达90%！预计3至5年内量产

近日，第26届中国国际工业博览会上，朗道燧岩（上海）科技有限公司（简称“朗道燧岩”）公开展示一台极紫外（EUV）光源系统样机，这是目前公开可见的国产研发进度领先的EUV光源样机。

图为创新科技馆“集成电路与数字技术”展区内朗道光源带来的7nm以下制程的EUV光源系统。来源：上观新闻

据现场工作人员介绍，该光源系统国产化率达90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。EUV光源是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期面临海外技术垄断和禁运限制，是制约高端芯片自主可控的关键环节。

据朗道燧岩介绍，其高功率极紫外光源系统FlintMicro-LPP系列已完成原理论证；低功率EUV光源系统FlintNano LPP-OXXO进入产品化阶段：驱动激光功率1000W，激光频率1至20kHz，转换效率大于2%，亮度达100W/mm²sr，EUV能量大于15W，持续工作时间超100小时；等离子体尺寸为60μm，等离子体稳定性为3%RMS，能量稳定性为5%。

朗道燧岩成立于2024年。创始人王豪博士团队依托清华大学气体放电等离子体实验室的科研成果，主攻激光诱导等离子体（LPP）EUV光刻光源技术。公司布局燧岩、辉光、天算三大业务板块：燧岩聚焦EUV光源系统，辉光专注大功率二氧化碳轴快流激光器，天算开发等离子体仿真软件。

融资方面，朗道燧岩2025年10月获得张江高科旗下燧玥创投的天使轮融资，累计融资金额超千万元，并入驻上海集成电路设计产业园。后续公司在2026年1月完成天使+轮融资，2026年7月完成A轮融资，投资方包含沃衍资本、中芯聚源等产业资本。

本次EUV光源样机亮相具备标志性意义，但现场工作人员也坦言，该光源距离量产仍需3至5年，现阶段核心攻关方向是进一步提升输出功率与长时间运行稳定性。

商用EUV光刻设备对光源要求达到数百瓦输出功率，且需要具备长时间高可靠运行能力。以ASML的EUV光源为例，其250W版本自2018年起实现量产，当前正朝着1000W更高功率版本迭代。