佳能纳米压印光刻技术进入量产线优化阶段：功耗降至传统光刻的十分之一

日本佳能公司近日发布技术访谈，介绍了其纳米压印光刻（NIL）技术在客户量产线上的优化进展。自2023年推出搭载NIL技术的设备以来，采用该设备的客户一直在进行最终调整，以优化半导体量产线。佳能两位一线工程师分享了这一历程与未来展望。

NIL与传统光刻的核心差异

佳能光学产品运营部的Takahiro Sato用一个形象的比喻解释了两种技术的区别：“如果把传统光学光刻比作‘用光投影’，那么NIL几乎就像是‘盖章’。”

NIL最显著的特征是使用一种称为“掩模”的模板——上面刻有电路图案，直接压印到涂覆在晶圆上的树脂上。这使得复杂结构可以在单一步骤中一次性形成，无需传统光刻所需的重复曝光。此外，由于NIL不使用光源来形成电路图案，其功耗可降至传统方法的约十分之一。

但直接接触也带来了NIL独有的挑战。光学产品运营部的Masato Shichijo指出：“由于半导体芯片通过堆叠多层制造，纳米级的超高套刻精度是绝对必要的。此外，如果接触过程中夹杂颗粒污染物，可能导致缺陷或损坏掩模。”团队通过持续试错逐一攻克了这些问题。

光学光刻与纳米压印光刻的比较

量产线优化的关键要素

Sato表示，客户无法将NIL作为独立系统充分运行。在集团公司紧密合作提升半导体制造设备精度的同时，还必须优化整个制造流程，包括掩模清洗系统等外围设备。

对于未来目标，Sato表示：“我们的下一个里程碑是增强量产工艺所需的整体能力。通过彻底延长掩模寿命并降低成本，我们旨在将技术完善到客户可以像操作传统设备一样轻松使用的水平。目前我们在NIL方面的技术能力领先竞争对手一步，但提升量产工艺性能仍是持续挑战。”

Shichijo表示：“NIL 终于进入了最后阶段：在客户现场全面采用，实现大规模生产。完成这项使命是我们的责任，我坚信，它的成功将直接为整个社会带来节能效益，并加速技术的进一步发展。”

开发背后的文化

Shichijo补充道，佳能拥有一个开放的环境，员工无论资历或年龄都可以积极提交专利申请。如果提案被认为能够通过解决特定问题为客户带来明确利益，员工甚至可能被任命为项目负责人。“在鼓励性文化中主动进取、帮助塑造工作氛围并日复一日地体验个人成长，是我工作中最好的部分之一。”

来源：佳能全球官网技术访谈https://global.canon/en/technology/canon-tech/interview/nanoimprint/