ASML 价值 4 亿美元的光刻机首批组件运抵奥尔巴尼

数月来，奥尔巴尼（ALBANY）纳米科技园区的科学家和研究人员一直在期盼一套价值 4 亿美元的光刻系统的到来，该设备用于在硅晶圆上蚀刻原子尺度的结构特征。

这一天终于来到了。

周二，纽约州州长凯茜·霍楚尔（Kathy Hochul）办公室宣布，阿斯麦（ASML）TWINSCAN EXE: 5200 的首批组件已开始运抵奥尔巴尼，并将安装于“NanoFab Reflection”大楼中。这座耗资 6 亿美元的新建大楼专门用于容纳 EXE: 5200，该设备是正在建设的“高数值孔径极紫外光刻中心”的核心半导体制造装备。

霍楚尔为该光刻中心争取到了 10 亿美元资金，该中心将利用 ASML 最先进的光刻机在原子尺度上将计算机芯片设计图样蚀刻至硅晶圆上。奥尔巴尼纳米科技园区由纽约州附属非营利机构 NY Creates 负责运营。IBM 及其他企业合作伙伴已承诺为该中心额外投入 90 亿美元的研发资金。

“今天的里程碑让我们距离确立纽约州作为全美半导体创新和世界级研发大本营的未来更近了一步，”霍楚尔在一份声明中表示。“通过为 NY Creates 和奥尔巴尼纳米科技园区争取到全球最先进的芯片制造技术，我们正在将承诺变为现实。在未来几十年里，纽约州将成为前沿芯片设计的首要枢纽。”

几十年来，IBM 和奥尔巴尼纳米科技园区的其他入驻企业一直在利用 ASML 光刻机进行全新计算机芯片设计的研发。EXE: 5200 旨在制造迄今为止人工智能（AI）应用所需的最微小芯片元件。该技术极其先进，以至于美国已禁止荷兰向中国出口此类设备。ASML 总部位于荷兰。

这款 ASML 设备被比作“装在盒子里的超新星灯泡”，它通过向以每秒 50,000 滴的速度落下的熔融锡滴流发射极紫外激光，从而产生基于等离子体的光源。

EXE: 5200 的体积显著大于 ASML 此前的极紫外（EUV）扫描光刻机（以往常被拿来与公交车的大小作对比）。新机型重达 200 吨——相当于两架空客 A320 飞机的重量——体积与一辆双层巴士相当。

据 NY Creates 透露，这台 ASML 设备拆分为 250 个木箱、装入 43 个集装箱，由 5 架货机和 20 多辆气垫半挂卡车（air-ride semitrucks）运输而来。

预计 EXE: 5200 将于今年晚些时候完成组装并出光。全面研发活动将于 2027 年初正式展开。

“首批高数值孔径极紫外（High NA EUV）系统组件的运抵，标志着 NY Creates 迎来了令人振奋的里程碑，这一成就体现了团队多年的协作配合以及纽约州的持续投资，”NY Creates 总裁兼首席执行官戴夫·安德森（Dave Anderson）在声明中表示。“我们非常自豪能看到这一愿景在纽约上州变为现实。”

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原文：First components of ASML’s $400 million lithography tool arrive in Albany