NNT 2025 庆祝纳米压印技术诞生 30 周年——21 世纪最具变革性的技术之一

美国加州达纳角，2025年11月13日——第24届纳米压印及纳米印刷技术国际会议（NNT 2025，www.nntconf.org ）在加州达纳角圆满落幕，庆祝纳米压印光刻（NIL）技术诞生30周年。纳米压印技术是21世纪最具变革性的技术之一，它彻底革新了纳米制造，开辟了新的领域和产业，推动了突破性产品的诞生，并在全球科学、技术和工业的众多领域取得了重大进展，创造了数十亿美元的年收入，并塑造了近万亿美元的市场。

2025 年10 月 12 日至 15 日举行的NNT 会议是该领域的顶级会议，汇聚了顶尖的科学家、工程师、企业家和技术专家，以及主要的纳米压印公司和关键材料及设备供应商，旨在展示该领域的进展，回顾纳米压印的历史，表彰对纳米压印的成功和转型做出重要贡献的人，并庆祝纳米压印的持久创新和变革性影响——几乎所有该领域的先驱都出席了会议。

Nanoimprint技术于1995年发明并命名，它标志着纳米光刻和纳米图案化领域的一次范式转变——从传统的波-物质相互作用（光子、电子和离子）过渡到基于模具的纳米机械变形的新时代。这一根本性的差异使得Nanoimprint能够克服波-物质相互作用的固有局限性，并在高分辨率（~1 nm）、图案化灵活性、大面积可扩展性、工艺简便性和低成本方面展现出显著优势——这些优势，无论单独还是综合来看，都尚未被其他纳米图案化方法完全匹敌。

三十多年来，纳米压印技术已发展成为一项变革性的纳米制造技术，其应用领域极其广泛。该技术创造了数十亿美元的年收入，塑造了潜在规模接近万亿美元的市场，并带来了深远的经济和社会效益。受纳米压印技术影响的行业和应用包括：消费电子产品（增强现实 (AR) 和虚拟现实 (VR) 眼镜、智能眼镜、显示器和智能手机）；生物技术和生命科学（基因测序、生物传感、生物医学和制药应用）；光子学和光通信（LED、激光器、透镜、调制器、超构光学器件和成像器）；半导体集成电路 (IC) 和人工智能 (AI)；能源技术（太阳能电池、照明和电池）；超材料和工程表面（结构色、润湿性和热管理）；以及汽车、航空航天、安全和认证系统。

1995年，当时在明尼苏达大学任教的普林斯顿大学教授周郁（Stephen Y. Chou）发明并命名了纳米压印技术，该技术建立在他两项纳米机械变形实验发现的基础上。他展示了小于10纳米的图案——比当时集成电路制造中使用的350纳米特征尺寸小30多倍——并提出纳米压印技术是一种用于半导体集成电路、光子器件、磁性器件和其他纳米器件的全新纳米加工和纳米制造方法。最初，这一颠覆性概念遭到了广泛的质疑，并常常被认为是“不可能的”，因为当时可用的机械变形技术似乎对周郁的提议构成了难以逾越的障碍。

在纳米压印技术发明后的头三年里，众多创新成果相继问世并发表，克服了使其成为实用且强大的纳米制造技术的关键障碍。这些创新成果包括：无需机械压板的新型压印方法、改进的光刻胶，以及能够实现更小特征尺寸、更高均匀性和更快压印速度的技术——此外，纳米压印技术还首次成功制造出高性能的纳米晶体管、纳米光子器件和纳米磁性器件。一些富有远见的赞助商和早期支持者也在纳米压印技术发展初期发挥了重要作用。这些积累的进展和发表的论文消除了早期的疑虑，结束了其他研究团队在该技术领域长达三年的几乎无论文发表的局面（仅有一篇）。到1998年底，其他研究团队开始在该领域发表论文，标志着一个全球性社群的崛起。该社群凭借集体智慧，将“不可能”变为现实，使纳米压印技术成为21世纪最具变革性的技术之一。

自2009年以来，首台纳米压印机一直在慕尼黑的德意志博物馆展出——该博物馆是世界顶尖的科技博物馆之一——这充分体现了纳米压印技术的历史和工业价值。2003年，《麻省理工科技评论》将纳米压印技术评为“十大将改变世界的新兴技术”之一，凸显了其革命性的潜力。如今，与纳米压印技术相关的已申请或已获授权的专利数以万计，是期刊论文数量的数倍，这充分表明了纳米压印技术的广泛影响和巨大的商业潜力。

NNT 2025 总结道，尽管纳米压印技术已成为 21 世纪最具变革性的技术之一，但其全部潜力——涵盖科学、技术、工业以及推动和创造新的突破性商业产品——才刚刚开始展现，未来还有更大的进步和影响。

为纪念纳米压印技术三十周年及其变革性影响，NNT 2025 设立了四个奖项类别，表彰先驱者、富有远见的支持者和行业领袖。完整的获奖者名单和颁奖词可在 NNT 网站 ( https://nntconf.org/award/ ) 上查看。

1. 纳米压印技术30周年卓越成就奖

这是授予对纳米压印技术及其应用做出卓越贡献的个人和组织的最高荣誉。获奖者：Stephen Y. Chou、Lars Montelius、Grant C. Willson、Nanonex Corporation、Obducat AB、Molecular Imprints Inc./Canon 和 EV Group。

2. 纳米压印技术30周年先锋奖

旨在表彰纳米压印技术早期发展阶段的先驱者和开发者，他们在当时普遍的质疑和重大的技术挑战下，帮助建立并推动了该领域的发展。该奖项共颁发给46位获奖者，其中包括七位杰出成就奖获得者中的六位。

3. 纳米压印技术30年远见卓识支持者奖

旨在表彰在纳米压印技术颠覆性概念遭遇广泛质疑和阻力之时，提供关键早期资金支持的个人和资助机构。获奖者包括：David and Lucile Packard基金会；Larry Cooper（海军研究办公室，ONR）及其在1995年提供的支持；R. Fabian Pease（国防高级研究计划局，DARPA）及其在1997年设立全球首个纳米压印技术国家资助项目的机构；Ramon Compano（欧盟委员会）及其在1998年启动首个欧洲纳米压印技术资助项目的机构；以及Dan Herr（半导体研究公司，SRC）及其对纳米压印技术研发的及时支持。

4. 30年纳米压印行业应用突破奖

旨在表彰在显示器、增强现实/虚拟现实、智能眼镜、智能手机、超构光学、基因测序、生物传感、半导体集成电路、人工智能以及安全/认证等行业中开发出变革性纳米压印应用的公司——这些公司创造的产品累计创造了数十亿美元的年收入，并带来了巨大的经济和社会效益。该奖项颁发给“Anonymous（匿名）”公司，因为这些公司选择保持匿名；奖牌上也相应地刻有获奖者的姓名。待这些公司选择公开身份后，再将其公布。

来源：NNT 会议