荣誉时刻 | 苏州新维度通过2024年国家高新技术企业的认定！

2024年11月6日，全国高新技术企业认定管理工作领导小组办公室根据《高新技术企业认定管理办法》（国科发火【2016】32号）和《高新技术企业认定管理工作指引》（国科发火【2016】195号）有关规定，对江苏省2024年认定报备的第一批高新技术企业进行备案公示。公示期为10个工作日（目前公示期已过）。苏州新维度微纳科技有限公司凭借其先进的技术能力、强大的研发实力、显著的业务增长，顺利通过了2024年的高新技术企业认定，这一荣誉不仅肯定了公司在纳米压印行业内的领先地位，也标志着其在科技创新和市场竞争力方面的杰出表现。

科普区

什么是纳米压印技术？

纳米压印技术诞生的背景：在20世纪90年代中期，随着集成电路中晶体管集成度的不断提升，摩尔定律所预测的晶体管尺寸缩小趋势遭遇了传统光刻技术的极限挑战。当时，晶体管尺度已进入纳米级别，导致传统光刻机的复杂性和制造成本急剧增加，企业面临无法承担的高昂成本问题。在这样的背景下，华裔科学家、美国普林斯顿大学的Stephen Y. Chou教授在1995年首次提出了纳米压印技术。

纳米压印技术的优势：其最大的特点在于高分辨率、低成本和大批量制造能力，被美国麻省理工科技周刊评为“将改变世界的十大新兴技术之一”，得到了学术界和产业界的广泛关注，并被纳入到国际半导体产业技术发展蓝图。

纳米压印技术的原理：纳米压印技术的基本原理是在一块硬质或软质模板上构造出具有微纳结构的图形，然后通过施加压力将模板的结构压入热塑性或者其他可固化材料中，并不断转印从而获得与压印模板结构完全相反的微纳结构图形。

纳米压印技术与传统光刻工艺的关联：纳米压印技术借鉴了光刻工艺，提供了一种高分辨率、高密度的全新制造路径，尤其在传统光刻技术遇到瓶颈时，传统光刻工艺使用的是4X掩模板，而纳米压印工艺中使用的是1X掩模板，直接复制图案，突破了光刻工艺的分辨率极限。纳米压印技术具有3D图案成型能力，无光学散射衍射限制，大面积制造，兼容柔性衬底，设备工艺简单，低能耗，高效且低成本的特点，广泛应用于LED、AR/VR、光学器件、生物医学检测等泛半导体领域，而光刻技术则专注于集成电路制造，两种技术在各自的领域内发挥着重要作用，并在某些应用中可以相互补充。

纳米压印技术的应用领域：经过数十年的发展，纳米压印技术已经从实验室研究阶段逐步走向工业化应用，目前已被应用到LED衬底图形化、DNA测序、AR/VR、传感、微纳光学、柔性电子等领域。