峰会资讯|深耕掩模版领域，开拓技术新应用

2022年10月25日至10月26日，以“创新强链，双驱发展”为主题的2022年中国（深圳）集成电路峰会（以下简称: ICS 2022峰会）在深圳坪山格兰云天国际酒店隆重举行，届时将有众多国内外专家学者、技术大咖和行业领袖汇集于此，共同探讨新形势下集成电路产业发展机遇。

本次峰会由一个全球直播、两个主论坛、三个闭门会议、八个平行专题论坛组成，同时设有技术产品展。主题演讲环节内容丰富、异彩纷呈，我们将对此进行专题预告，一起来围观吧!

掩模版(mask) 简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜 (condenser lens) 与投影透镜(projection lens) 之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模版主要应用于平板显示、半导体、触控和电路板的制造过程，是必不可少的关键材料之一。随着晶圆厂的快速扩产，芯片公司不断推出新的产品料号，对于掩模版的产品需求大幅增加，有望推进市场空间与国产替代的双重增长。

在本届ICS2022峰会上，深圳市龙图光罩股份有限公司副总经理王栋将发表《半导体掩模版与制作流程介绍》的主题演讲，重点分享介绍什么是半导体掩模版？掩模版制作流程是怎样的?以及受益于半导体和显示板行业的快速发展，作为不可或缺的重要电子元器件，龙图光罩如何把制作能力与未来高端光导体掩模规划联合发展。

嘉宾介绍

王栋，男，从事掩模版行业十五年，任深圳市龙图光罩股份有限公司副总经理。